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新型真空等離子清洗機YH-PL10
發布時間:2018-07-10  瀏覽:
YH-PL10新型真空等離子清洗機廣泛應用于:
等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。

等離子處理機產品特點:
1、環保技術:等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環境無污染。 
2、廣適性:不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理;
3、溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。
4、功能強:僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000A ),可在保持材料自身特性的同時,賦予其一種或多種新的功能; 
5、低成本:裝置簡單,易操作維修,可連續運行,往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。
6、全過程可控工藝:所有參數可由PLC設置和數據記錄,進行質量控制。
7、處理物幾何形狀無限制:大或小,簡單或復雜,部件或紡織品,均可處理。 

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